Úřad průmyslového Vlastnictví

secondlevel image

CNIPA v rámci programu stipendií čínské vlády pro rok 2021 nabízí našemu Úřadu možnost nominovat 3 až 4 úředníky nebo jiné odborníky (z průmyslu, právních firem…) z oblasti IP na studijní pobyt na jedné ze dvou prestižních universit v Číně. Jedná se o dvouleté postgraduální magisterské studium práv průmyslového vlastnictví. První rok probíhá studium v ČLR, druhý rok dopisuje kandidát již ve své zemi při zaměstnání závěrečnou práci s následnou obhajobou (přes videokonferenci). Kandidáti musí být nominování do 15. 4. 2021. Poté bude žádost posuzována přijímací komisí. Neúspěšní žadatelé budou mít ještě možnost uspět příští rok.

Vlivem pandemie Covid-19 může být první rok studijního programu 2021/2022 přeměněn na distanční výuku a bude probíhat ze země žadatele. V takovém případě budou všechna stipendia v Číně zrušena. Vše bude záležet na epidemiologické situaci, a zda se bude moci vycestovat do Číny. Žadatelé by proto měli tuto skutečnost pečlivě zvážit.

Stipendium zahrnuje náklady na výuku, ubytování, měsíční příspěvky (RMB 3000), obecné lékařské pojištění pro první rok studia. Mezinárodní letenka hrazena není!

Požadavky na kandidáty:
- musí být nominováni Úřadem průmyslového vlastnictví
- do věku 40 let
- s praxí delší než 2 roky v oblasti IP, kde musí pracovat i po ukončení studia
- ukončené přinejmenším bakalářské studium
- znalost AJ – proficiency (General Introduction to the Master Program in IP Law (2020) (pdf, 42 kB))

Postup podání přihlášky a její náležitosti jsou podrobně popsány v přílohách:
Application Form for Master Program in Intellectual Property Law (docx, 114 kB)
Application Form for Chinese Government Scholarschip (pdf, 183 kB)
Foreigner Physical Examination Form (pdf, 135 kB)
Introduction to the Collaborative Universities (pdf, 112 kB)

Případné zájemce prosíme v termínu do 29. března 2021 kontaktovat mezinárodní oddělení (kontaktní osoby: Tereza Topičová ttopicova@upv.cz nebo Lucie Zamykalová  lzamykalova@upv.cz)